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    Technical articles技術(shù)文章
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    • 2023
      使用高壓微射流均質(zhì)機(jī)時(shí),需要注意以下事項(xiàng)以確保安全和有效的操作

      高壓微射流均質(zhì)機(jī)是一種將高壓氣體通過(guò)微噴嘴喉口噴射并與環(huán)境中物質(zhì)發(fā)生沖擊、剪切、磨擦等微觀作用,以達(dá)到分散、均質(zhì)、研磨、乳化等現(xiàn)象的設(shè)備。它是一種高效、環(huán)保、節(jié)能、均質(zhì)分散粉體、乳化分散液體的新型制備設(shè)備。原理是通過(guò)高速噴射的氣體,使干粉或...

    • 2023
      高壓微射流均質(zhì)機(jī)的功能與特點(diǎn)分別是什么

      高壓微射流均質(zhì)機(jī)是一種將高壓氣體通過(guò)微噴嘴喉口噴射并與環(huán)境中物質(zhì)發(fā)生沖擊、剪切、磨擦等微觀作用,以達(dá)到分散、均質(zhì)、研磨、乳化等現(xiàn)象的設(shè)備。它是一種高效、環(huán)保、節(jié)能、均質(zhì)分散粉體、乳化分散液體的新型制備設(shè)備。原理是通過(guò)高速噴射的氣體,使干粉或...

    • 2023
      對(duì)于大乳粒分析儀的優(yōu)勢(shì)有哪些部分

      大乳粒分析儀集自動(dòng)進(jìn)樣、自動(dòng)稀釋、自動(dòng)檢測(cè)、數(shù)據(jù)處理以及自動(dòng)清洗等全自動(dòng)檢測(cè)功能于一身,為用戶提供可方便、快捷、高效、可靠的粒徑分析。大乳粒分析儀是一種用于測(cè)量和分析液體中的乳粒濃度和粒徑分布的儀器。它具有以下技術(shù)優(yōu)勢(shì):1.高精度測(cè)量:大乳...

    • 2023
      在線顆粒計(jì)數(shù)器還有多種部分組成的

      在線顆粒計(jì)數(shù)器是一種用于實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)空氣、水或其他液體中顆粒數(shù)量的設(shè)備。它可以幫助工業(yè)制造商和環(huán)境保護(hù)機(jī)構(gòu)檢測(cè)污染物和監(jiān)測(cè)空氣質(zhì)量?;诩す馍⑸浼夹g(shù),使用一束激光照射流經(jīng)顆粒的氣流或液流,然后通過(guò)測(cè)量反向散射光來(lái)確定顆粒的大小和數(shù)量。廣泛應(yīng)用于...

    • 2023
      拋光液檢測(cè)儀的保養(yǎng)是可延長(zhǎng)其壽命的關(guān)鍵

      拋光液檢測(cè)儀是運(yùn)用光阻法單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)(SPOS)對(duì)粒子樣本進(jìn)行粒徑測(cè)試并計(jì)數(shù),一次檢測(cè)一個(gè)粒子,來(lái)構(gòu)建真正的粒徑分布。運(yùn)用SPOS技術(shù)與激光衍射和沉降法所得到的粒徑統(tǒng)計(jì)學(xué)分布數(shù)據(jù)形成了鮮明對(duì)比,SPOS技術(shù)能夠在測(cè)量粒徑的同時(shí)收集顆粒...

    • 2023
      不溶性微粒檢測(cè)儀的檢測(cè)原理了解

      不溶性微粒檢測(cè)儀主要用于檢測(cè)液體或氣體中的不溶性微粒的濃度和大小。這些微??梢允枪腆w顆粒、液滴或氣泡等。這種檢測(cè)儀器廣泛應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、水質(zhì)監(jiān)測(cè)、空氣質(zhì)量監(jiān)測(cè)、制藥工業(yè)、食品工業(yè)等領(lǐng)域。不溶性微粒檢測(cè)儀通過(guò)傳感器檢測(cè)樣品中的微粒,并通過(guò)數(shù)據(jù)...

    • 2023
      以下是拋光液檢測(cè)儀的一些使用技巧所在

      拋光液檢測(cè)儀是運(yùn)用光阻法單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)(SPOS)對(duì)粒子樣本進(jìn)行粒徑測(cè)試并計(jì)數(shù),一次檢測(cè)一個(gè)粒子,來(lái)構(gòu)建真正的粒徑分布。運(yùn)用SPOS技術(shù)與激光衍射和沉降法所得到的粒徑統(tǒng)計(jì)學(xué)分布數(shù)據(jù)形成了鮮明對(duì)比,SPOS技術(shù)能夠在測(cè)量粒徑的同時(shí)收集顆粒...

    • 2023
      二氧化鈰 CMP 漿料監(jiān)測(cè)

      化學(xué)機(jī)械拋光/平坦化(CMP)是微電子行業(yè)廣泛使用的一種工藝,通過(guò)化學(xué)力和機(jī)械力來(lái)進(jìn)行平坦化處理。該工藝使用磨料和腐蝕性漿料來(lái)幫助平坦化晶圓表面。漿料的粒度分布是控制平坦化工藝成功的關(guān)鍵參數(shù)。氧化鈰(ceria)的漿料廣泛地應(yīng)用于集成電路(...

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